Low-k dielectrics for trench isolation in nanoscaled CMOS imagers Journal of Vacuum Science Technology B, 27 (1) 2009 / Irrera, Fernanda; Puzzilli, Giuseppina; L., Ricci; F., Russo; F., Stirpe. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. B. - ISSN 1071-1023. - 1:(2009), pp. 517-520. [10.1116/1.3074346]
Low-k dielectrics for trench isolation in nanoscaled CMOS imagers Journal of Vacuum Science Technology B, 27 (1) 2009
IRRERA, Fernanda;PUZZILLI, Giuseppina;
2009
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