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Nanoscale tailoring of the polarization properties of dilute-nitride semiconductors via H-assisted strain engineering / Felici, Marco; Birindelli, Simone; Trotta, Rinaldo; Marco, Francardi; Annamaria, Gerardino; Notargiacomo, Andrea; Silvia, Rubini; Faustino, Martelli; Capizzi, Mario; Polimeni, Antonio. - In: PHYSICAL REVIEW APPLIED. - ISSN 2331-7019. - ELETTRONICO. - 2:(2014), pp. 064007-1-064007-11.

Nanoscale tailoring of the polarization properties of dilute-nitride semiconductors via H-assisted strain engineering

FELICI, Marco;BIRINDELLI, SIMONE;TROTTA, RINALDO;NOTARGIACOMO, andrea;CAPIZZI, Mario;POLIMENI, Antonio
2014
2014
01 Pubblicazione su rivista::01a Articolo in rivista
Nanoscale tailoring of the polarization properties of dilute-nitride semiconductors via H-assisted strain engineering / Felici, Marco; Birindelli, Simone; Trotta, Rinaldo; Marco, Francardi; Annamaria, Gerardino; Notargiacomo, Andrea; Silvia, Rubini; Faustino, Martelli; Capizzi, Mario; Polimeni, Antonio. - In: PHYSICAL REVIEW APPLIED. - ISSN 2331-7019. - ELETTRONICO. - 2:(2014), pp. 064007-1-064007-11.
01a Articolo in rivista
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