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Characterisation of charge trapping in SiO2/Al2O3 dielectric stacks by pulsed C-V / Puzzilli, Giuseppina; B., Govoreanu; Irrera, Fernanda; M., Rosmeulen; J., Van Houdt. - STAMPA. - (2006). (Intervento presentato al convegno Workshop on Dielectrics in Microelectronics tenutosi a ACIREALE (CATANIA) nel 2006).

Characterisation of charge trapping in SiO2/Al2O3 dielectric stacks by pulsed C-V

PUZZILLI, Giuseppina;IRRERA, Fernanda;
2006
2006
Workshop on Dielectrics in Microelectronics
04 Pubblicazione in atti di convegno::04d Abstract in atti di convegno
Characterisation of charge trapping in SiO2/Al2O3 dielectric stacks by pulsed C-V / Puzzilli, Giuseppina; B., Govoreanu; Irrera, Fernanda; M., Rosmeulen; J., Van Houdt. - STAMPA. - (2006). (Intervento presentato al convegno Workshop on Dielectrics in Microelectronics tenutosi a ACIREALE (CATANIA) nel 2006).
04d Abstract in atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11573/408015
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