Characterisation of charge trapping in SiO2/Al2O3 dielectric stacks by pulsed C-V / Puzzilli, G., B., G., Irrera, F., M., R., J., V.H.. - STAMPA. - (2006). (Workshop on Dielectrics in Microelectronics ACIREALE (CATANIA) 2006).
Characterisation of charge trapping in SiO2/Al2O3 dielectric stacks by pulsed C-V
PUZZILLI, Giuseppina;IRRERA, Fernanda;
2006
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