Characterisation of charge trapping in SiO2/Al2O3 dielectric stacks by pulsed C-V / Puzzilli, Giuseppina; B., Govoreanu; Irrera, Fernanda; M., Rosmeulen; J., Van Houdt. - STAMPA. - (2006). ((Intervento presentato al convegno Workshop on Dielectrics in Microelectronics tenutosi a ACIREALE (CATANIA) nel 2006.
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Titolo: | Characterisation of charge trapping in SiO2/Al2O3 dielectric stacks by pulsed C-V | |
Autori: | ||
Data di pubblicazione: | 2006 | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11573/408015 | |
Appartiene alla tipologia: | 04d Abstract in atti di convegno |
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