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The dimers stay intact: a quantitative photoelectron study of the adsorption system: Si(100)2x1-C2H4 / P., Baumgärtel; R., Linsay; O., Schaff; T., Giessel; R., Terborg; J. T., Hoeft; M., Polcok; A. M., Bradshaw; M., Carbone; M. N., Piancastelli; Zanoni, Robertino; D. P., Woodruff. - In: NEW JOURNAL OF PHYSICS. - ISSN 1367-2630. - 20:(1999).

The dimers stay intact: a quantitative photoelectron study of the adsorption system: Si(100)2x1-C2H4

ZANONI, Robertino;
1999
1999
01 Pubblicazione su rivista::01a Articolo in rivista
The dimers stay intact: a quantitative photoelectron study of the adsorption system: Si(100)2x1-C2H4 / P., Baumgärtel; R., Linsay; O., Schaff; T., Giessel; R., Terborg; J. T., Hoeft; M., Polcok; A. M., Bradshaw; M., Carbone; M. N., Piancastelli; Zanoni, Robertino; D. P., Woodruff. - In: NEW JOURNAL OF PHYSICS. - ISSN 1367-2630. - 20:(1999).
01a Articolo in rivista
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