X-ray diffraction and x-ray photoelectron spectroscopy study of the Ru-Cu/SiO2 system prepared by low temperature reduction: occurrence of a metastable amorphous or nanocrystalline phase / M., Lenarda; R., Ganzerla; L., Storaro; R., Frattini; S., Enzo; Zanoni, Robertino. - In: JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH. - ISSN 0884-2914. - 11:(1996), pp. 325-331. [10.1557/JMR.1996.0038]

X-ray diffraction and x-ray photoelectron spectroscopy study of the Ru-Cu/SiO2 system prepared by low temperature reduction: occurrence of a metastable amorphous or nanocrystalline phase

ZANONI, Robertino
1996

1996
01 Pubblicazione su rivista::01a Articolo in rivista
X-ray diffraction and x-ray photoelectron spectroscopy study of the Ru-Cu/SiO2 system prepared by low temperature reduction: occurrence of a metastable amorphous or nanocrystalline phase / M., Lenarda; R., Ganzerla; L., Storaro; R., Frattini; S., Enzo; Zanoni, Robertino. - In: JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH. - ISSN 0884-2914. - 11:(1996), pp. 325-331. [10.1557/JMR.1996.0038]
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