Indium-Vanadium Oxides Deposited by Radio Frequency Sputtering: New Thin Film Transparent Materials for Li-Insertion Electrochemical Devices / Decker, Franco; Artuso, F.; Liberatore, M.; Masetti, E.; Lourenco, A.; Simone, F.. - In: CHEMISTRY OF MATERIALS. - ISSN 0897-4756. - 14:(2002), pp. 636-642. [10.1021/cm010558l]

Indium-Vanadium Oxides Deposited by Radio Frequency Sputtering: New Thin Film Transparent Materials for Li-Insertion Electrochemical Devices

DECKER, Franco;
2002

2002
01 Pubblicazione su rivista::01a Articolo in rivista
Indium-Vanadium Oxides Deposited by Radio Frequency Sputtering: New Thin Film Transparent Materials for Li-Insertion Electrochemical Devices / Decker, Franco; Artuso, F.; Liberatore, M.; Masetti, E.; Lourenco, A.; Simone, F.. - In: CHEMISTRY OF MATERIALS. - ISSN 0897-4756. - 14:(2002), pp. 636-642. [10.1021/cm010558l]
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