Indium-Vanadium Oxides Deposited by Radio Frequency Sputtering: New Thin Film Transparent Materials for Li-Insertion Electrochemical Devices / Decker, F., Artuso, F., Liberatore, M., Masetti, E., Lourenco, A., Simone, F.. - In: CHEMISTRY OF MATERIALS. - ISSN 0897-4756. - 14:(2002), pp. 636-642. [10.1021/cm010558l]
Indium-Vanadium Oxides Deposited by Radio Frequency Sputtering: New Thin Film Transparent Materials for Li-Insertion Electrochemical Devices
DECKER, Franco;
2002
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