"Stress in carbon thin films during Li electrochemical intercalation" / J. M., Rosolen; Decker, Franco. - In: JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY. - ISSN 0013-4651. - 143:(1996), pp. 2417-2420.

"Stress in carbon thin films during Li electrochemical intercalation"

DECKER, Franco
1996

1996
01 Pubblicazione su rivista::01a Articolo in rivista
"Stress in carbon thin films during Li electrochemical intercalation" / J. M., Rosolen; Decker, Franco. - In: JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY. - ISSN 0013-4651. - 143:(1996), pp. 2417-2420.
File allegati a questo prodotto
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11573/713
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact