Foreseen operation at sub-THz frequencies of Schottky contacts for diodes and transistor gates on GaAs based heterostructures requires area reduction down to 0.1×1 microns, and wet chemical processes. We report on the compatibility of Trilayer Electron-beam Lithography with such wet processes. © 2010 IEEE.

Trilayer electron-beam lithography and surface preparation for sub-micron Schottky contacts on GaAs heterostructures / D., Dominijanni; R., Casini; V., Foglietti; Ortolani, Michele; A., Notargiacomo; C., Lanzieri; M., Peroni; P., Romanini; E., Giovine. - (2010). (Intervento presentato al convegno IRMMW-THz 2010 - 35th International Conference on Infrared, Millimeter, and Terahertz Waves tenutosi a Rome; Italy nel 2010) [10.1109/ICIMW.2010.5612783].

Trilayer electron-beam lithography and surface preparation for sub-micron Schottky contacts on GaAs heterostructures

ORTOLANI, MICHELE;
2010

Abstract

Foreseen operation at sub-THz frequencies of Schottky contacts for diodes and transistor gates on GaAs based heterostructures requires area reduction down to 0.1×1 microns, and wet chemical processes. We report on the compatibility of Trilayer Electron-beam Lithography with such wet processes. © 2010 IEEE.
2010
IRMMW-THz 2010 - 35th International Conference on Infrared, Millimeter, and Terahertz Waves
Area reduction; GaAs; Heterostructures
04 Pubblicazione in atti di convegno::04b Atto di convegno in volume
Trilayer electron-beam lithography and surface preparation for sub-micron Schottky contacts on GaAs heterostructures / D., Dominijanni; R., Casini; V., Foglietti; Ortolani, Michele; A., Notargiacomo; C., Lanzieri; M., Peroni; P., Romanini; E., Giovine. - (2010). (Intervento presentato al convegno IRMMW-THz 2010 - 35th International Conference on Infrared, Millimeter, and Terahertz Waves tenutosi a Rome; Italy nel 2010) [10.1109/ICIMW.2010.5612783].
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