Surface Modification and Patterning Using Low-Energy Ion Beams: Si-O Bond Formation at the Vacuum/Adsorbate Interface

Chris, Evans; Pepi, F.; Strossman, Greg; Schuerelein, Tom; Robert, GRAHAM COOKS

doi:10.1021/ac010928p

CINECA IRIS Institutional Research Information System

IRIS è la soluzione IT che facilita la raccolta e la gestione dei dati relativi alle attività e ai prodotti della ricerca. Fornisce a ricercatori, amministratori e valutatori gli strumenti per monitorare i risultati della ricerca, aumentarne la visibilità e allocare in modo efficace le risorse disponibili.

Surface Modification and Patterning Using Low-Energy Ion Beams: Si-O Bond Formation at the Vacuum/Adsorbate Interface / CHRIS EVANS; F. PEPI; GREG STROSSMAN; TOM SCHUERELEIN; ROBERT GRAHAM COOKS. - In: ANALYTICAL CHEMISTRY. - ISSN 0003-2700. - 74(2002), pp. 317-323.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11573/48796

Titolo:	Surface Modification and Patterning Using Low-Energy Ion Beams: Si-O Bond Formation at the Vacuum/Adsorbate Interface
Autori interni:	PEPI, Federico
Data di pubblicazione:	2002
Rivista:	ANALYTICAL CHEMISTRY
Handle:	http://hdl.handle.net/11573/48796
Appare nelle tipologie:	01.a Pubblicazione su Rivista

File in questo prodotto:

Non ci sono file associati a questo prodotto.

Citazioni

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.