A comprehensive model of defect creation in tunnel oxides / Caputo, Domenico; Irrera, Fernanda. - STAMPA. - (2002), pp. 179-182. (Intervento presentato al convegno 3rd European Workshop on Ultimate Integration of Silicon tenutosi a Munich (Germania) nel marzo 2002).

A comprehensive model of defect creation in tunnel oxides

CAPUTO, Domenico;IRRERA, Fernanda
2002

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