Influenza dei parametri di processo sulle proprietà di rivestimenti PVD base nitruri

Il continuo sviluppo delle tecniche di deposizione PVD ed il costante ampliarsi dei campi di applicazione dei rivestimenti sottili rendono la deposizione di film da fase vapore una tecnologia industrialmente strategica per la quale è possibile intravedere grandi possibilità di sviluppo, riguardo sia ai materiali ed alle applicazioni che all’ottimizzazione dei processi di deposizione. I rivestimenti PVD studiati nel presente lavoro (TiN e CrN ottenuti con tecnologia ad arco catodico CA-PVD) presentano elevata durezza, basso coefficiente d’attrito e buona resistenza alla corrosione; tali proprietà li rendono eccellenti rivestimenti antiusura, ormai largamente utilizzati nell’industria meccanica, aerospaziale, ottica e biomedica [1-6]. In virtù della diffusione e della industrializzazione sempre maggiore dei riporti PVD assume grande importanza il problema del contenimento dei costi di produzione legato all’ottimizzazione dei parametri di deposizione, ovvero la possibilità di modificare “ad hoc” le variabili di processo in funzione delle proprietà che il rivestimento deve possedere. Scopo del presente lavoro è l’analisi di come le proprietà meccaniche e morfologiche dei due rivestimenti “monolayer” di TiN e CrN varino al variare dei parametri di deposizione, in particolare modificando la temperatura massima del substrato e la tensione di bias