New photothermal deflection method for thermal diffusivity measurement of semiconductor wafers / Bertolotti, Mario; V., Dorogan; Leahu, Grigore; LI VOTI, Roberto; S., Paoloni; Sibilia, Concetta. - In: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS. - ISSN 0034-6748. - STAMPA. - 68:(1997), pp. 1521-1526.

New photothermal deflection method for thermal diffusivity measurement of semiconductor wafers

BERTOLOTTI, Mario;LEAHU, GRIGORE;LI VOTI, Roberto;SIBILIA, Concetta
1997

1997
01 Pubblicazione su rivista::01a Articolo in rivista
New photothermal deflection method for thermal diffusivity measurement of semiconductor wafers / Bertolotti, Mario; V., Dorogan; Leahu, Grigore; LI VOTI, Roberto; S., Paoloni; Sibilia, Concetta. - In: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS. - ISSN 0034-6748. - STAMPA. - 68:(1997), pp. 1521-1526.
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