The NO abatement with CH4 in the presence of O2 on H-ZSM5 with Si/Al=15 to 200: the dependence of activity on the proton concentration / Campa, Maria Cristina; B., Iacono; Pietrogiacomi, Daniela; Indovina, Valerio. - In: CATALYSIS LETTERS. - ISSN 1011-372X. - 66:(2000), pp. 81-86. [10.1023/A:1019087204304]
The NO abatement with CH4 in the presence of O2 on H-ZSM5 with Si/Al=15 to 200: the dependence of activity on the proton concentration
CAMPA, Maria Cristina;PIETROGIACOMI, Daniela;INDOVINA, Valerio
2000
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