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Advanced ACTPol Multichroic Polarimeter Array Fabrication Process for 150 mm Wafers / Duff, S. M; Austermann, J.; Beall, J. A.; Becker, D.; Datta, R.; Gallardo, P. A.; Henderson, S. W.; Hilton, G. C.; Ho, S. P.; Hubmayr, J.; Koopman, B. J.; Li, D.; Mcmahon, J.; Nati, Federico; Niemack, M. D.; Pappas, C. G.; Salatino, M.; Schmitt, B. L.; Simon, S. M.; Staggs, S. T.; Stevens, J. R.; Van Lanen, J.; Vavagiakis, E. M.; Ward, J. T.; Wollack, E. J.. - In: JOURNAL OF LOW TEMPERATURE PHYSICS. - ISSN 0022-2291. - 184:3-4(2016), pp. 634-641. [10.1007/s10909-016-1576-y]
Advanced ACTPol Multichroic Polarimeter Array Fabrication Process for 150 mm Wafers
Duff, S. M;Austermann, J.;Beall, J. A.;Becker, D.;Datta, R.;Gallardo, P. A.;Henderson, S. W.;Hilton, G. C.;Ho, S. P.;Hubmayr, J.;Koopman, B. J.;Li, D.;Mcmahon, J.;NATI, FEDERICO;Niemack, M. D.;Pappas, C. G.;Salatino, M.;Schmitt, B. L.;Simon, S. M.;Staggs, S. T.;Stevens, J. R.;Van Lanen, J.;Vavagiakis, E. M.;Ward, J. T.;Wollack, E. J.
AlMn; Multichroic; Polarimeter; SiNx; Transition-edge sensor; Atomic and Molecular Physics, and Optics; Materials Science (all); Condensed Matter Physics
01 Pubblicazione su rivista::01a Articolo in rivista
Advanced ACTPol Multichroic Polarimeter Array Fabrication Process for 150 mm Wafers / Duff, S. M; Austermann, J.; Beall, J. A.; Becker, D.; Datta, R.; Gallardo, P. A.; Henderson, S. W.; Hilton, G. C.; Ho, S. P.; Hubmayr, J.; Koopman, B. J.; Li, D.; Mcmahon, J.; Nati, Federico; Niemack, M. D.; Pappas, C. G.; Salatino, M.; Schmitt, B. L.; Simon, S. M.; Staggs, S. T.; Stevens, J. R.; Van Lanen, J.; Vavagiakis, E. M.; Ward, J. T.; Wollack, E. J.. - In: JOURNAL OF LOW TEMPERATURE PHYSICS. - ISSN 0022-2291. - 184:3-4(2016), pp. 634-641. [10.1007/s10909-016-1576-y]
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2023-2025 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
